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NSC-3000 (M) 磁控溅射系统
不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗预真空锁以及自动晶圆片上/下载片 NSC-3000(M)磁控溅射系统带有水冷或者
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德国应用光谱Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚仪
等离子体发射测量在紫外线…近红外线范围可同时观察到等离子发射低压等离子沉积技术是一个客观的连续不断的过程,如PVD(物理气象沉积)是今天真正的问题之一。除了等离子体发射光的表观检查,有时也使用
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磁控溅射系统NSC-4000 (M)
基板支持加热(最高可达800°C)或冷却支持旋转GLAD斜角入射沉积腔体尺寸可定制1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料 NANO-MASTER的溅射系统可构建成多腔体和多
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NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统
不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗 NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到
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多功能薄膜制备系统-Nano PVD
团队的具体需求,经过不懈努力推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。推出之后短短几年时间已经在欧洲销售了数十台,该系列产品包含了磁控溅射
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炫一M3物联网气相色谱分析平台M3000
手机或PC,所以、有参数及显示界面均可定制,是国产高端气相色谱分析平台的创新者、行业的先行者。【应用范围】■石化:MTO/MTA/GTO等煤化工产物全组分分析、芳烃工艺产品及焦化产品全组分分析、炼厂气
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ETD-900M磁控溅射仪
离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备
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安东帕CATc 紧凑型球磨测厚仪
μm 和 50 μm 之间的涂层。简单的球坑法是快速且精确地获得所有涂层厚度的有效方法,适用单层和多层膜的涂层。通常包括 CVD、PVD、等离子喷涂涂层、阳极氧化层、化学和电沉积、聚合物、油漆和涂料
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VSParticle 纳米粒子发生器
的检测中,标准基片表现出了优异的信号增强性能。气体传感器 金属氧化物 (MOX) 气体传感器通过半导体金属氧化物薄膜的电阻变化来检测气体,但氧化物涂层需要温和的沉积,故而常用的 PVD 与 CVD
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NSC1000-NSC10000PEG浓缩脱水装置
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